Globalfoundries bereitet seine im US-Bundesstaat New York gerade im Bau befindliche Fabrik deshalb bereits für den Einsatz der neuen EUV-Lithografie vor. Diese könnte dort ab dem zweiten Halbjahr des Jahres 2012 installiert werden, so dass eine Massenproduktion auf der Grundlage der aktuell noch in der Forschung und Entwicklung befindlichen Technik 2014/2015 beginnen könnte. Die neue Fab 8 (
ehemals Fab 2 und auch Fab 4X) soll für die 20/22-nm-Fertigung Anfang 2013 ihren Betrieb aufnehmen.
Globalfoundries würde damit dem bisher vermutetem Zeitplan von einer Einführung frühestens im Jahr 2018/2019 bei einer wahrscheinlichen 11/12-nm-Fertigung gehörig vorgreifen. Die EUV-Lithografie könnte dann nämlich bereits bei 16 nm eingesetzt werden. Da sich in der Vergangenheit die Zeitpläne aber bereits massiv verschoben hatten, bleibt fraglich, ob die sehr optimistischen Angaben auch Bestand haben werden. So wurde beispielsweise 2004
angekündigt, dass man bereits im Jahr 2009 die EUV-Lithografie in der Massenfertigung einsetzen will – davon sind wir aber selbst 2011 noch sehr weit entfernt.
http://www.computerbase.de/news/allg...ie-generation/
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